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山東力冠微電子裝備

產品展示


MPCVD長晶爐

本設備主要是用于制備單晶金剛石??杉ぐl(fā)高穩(wěn)定度的等離子團,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

垂直布里奇曼法(VB)爐(非銥技術)

本設備主要用于氧化鎵(Ga2O3)單晶生長(無銥法),將原料放在垂直的坩堝內, 然后從坩堝尖端開始通過預設好的溫度梯度區(qū)作定向凝固。通過緩慢降溫而生長出單晶。

HVPE外延爐——臥式

本設備主要用于氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AIN)等外延生長。

HVPE外延爐——立式

本設備主要用于氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AIN)等外延生長。

坩堝下降爐

本設備主要用于砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等化合物晶體生長。設備由機架、安瓿支撐機構、加熱器和控制系統組成,能夠實現安瓿移動和轉動的精確控制。

導模法長晶爐

本設備主要用于氧化鎵(Ga2O3)單晶生長,將原料放在留有狹縫的模具中,熔液借虹吸作 用上升到模具頂部,受籽晶誘導結晶生長成單晶。

HVPE長晶爐——臥式

本設備主要用于氮化鎵(GaN)單晶生長;

HVPE長晶爐——立式

本設備主要用于氮化鎵(GaN)單晶生長;

SiC籽晶粘接設備

本設備是將SiC籽晶通過有機膠粘接在石墨上。提高籽晶粘接質量是保證高 品質SiC晶體生長的首要前提。

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